原理：利(li)用(yong)被檢(jian)測(ce)(ce)產品中的(de)不(bu)同物(wu)料受X射(she)線(xian)照射(she)后的(de)吸收(shou)率不(bu)同，經由探(tan)測(ce)(ce)器成像(xiang)并轉換成圖(tu)像(xiang)信息，其圖(tu)像(xiang)表現(xian)為灰度圖(tu)像(xiang)，不(bu)同物(wu)料或異物(wu)的(de)灰度不(bu)同，通過預設的(de)算法(fa)處(chu)理(li)及圖(tu)形圖(tu)像(xiang)技術分析后將(jiang)異物(wu)從被檢(jian)測(ce)(ce)的(de)產品中分離(li)出來，泰一(yi)明X光異物(wu)檢(jian)測(ce)(ce)機，基于(yu)實時(shi)系統(tong)獨(du)有的(de)高(gao)速處(chu)理(li)算法(fa)，集合韓國電子工業的(de)技術基礎而研制出的(de)高(gao)性能X射(she)線(xian)異物(wu)檢(jian)測(ce)(ce)機。