原理：利(li)用被(bei)(bei)檢(jian)(jian)測(ce)產品中的(de)(de)不(bu)(bu)同物(wu)料受X射線照射后的(de)(de)吸收率不(bu)(bu)同，經由探(tan)測(ce)器成像(xiang)并轉換成圖像(xiang)信息(xi)，其圖像(xiang)表(biao)現為灰度圖像(xiang)，不(bu)(bu)同物(wu)料或異物(wu)的(de)(de)灰度不(bu)(bu)同，通(tong)過預(yu)設的(de)(de)算(suan)法處理及圖形圖像(xiang)技(ji)術分析后將(jiang)異物(wu)從(cong)被(bei)(bei)檢(jian)(jian)測(ce)的(de)(de)產品中分離出來(lai)，泰一明X光異物(wu)檢(jian)(jian)測(ce)機(ji)，基(ji)(ji)于實時系統獨有的(de)(de)高(gao)速處理算(suan)法，集合韓國電子工(gong)業(ye)的(de)(de)技(ji)術基(ji)(ji)礎而研(yan)制出的(de)(de)高(gao)性能X射線異物(wu)檢(jian)(jian)測(ce)機(ji)。