原理：利用被(bei)檢(jian)測(ce)產品中的不(bu)同(tong)物料受X射線(xian)照射后的吸收率(lv)不(bu)同(tong)，經(jing)由探測(ce)器成像(xiang)并轉(zhuan)換成圖(tu)像(xiang)信息，其圖(tu)像(xiang)表現(xian)為灰(hui)度(du)圖(tu)像(xiang)，不(bu)同(tong)物料或異物的灰(hui)度(du)不(bu)同(tong)，通過預設的算(suan)法(fa)處理及圖(tu)形(xing)圖(tu)像(xiang)技(ji)術分析后將異物從(cong)被(bei)檢(jian)測(ce)的產品中分離(li)出來，泰(tai)一明(ming)X光異物檢(jian)測(ce)機(ji)，基于實(shi)時(shi)系統獨有(you)的高(gao)(gao)速處理算(suan)法(fa)，集(ji)合韓國電子工業的技(ji)術基礎而(er)研制(zhi)出的高(gao)(gao)性(xing)能X射線(xian)異物檢(jian)測(ce)機(ji)。